▲台積電7奈米強效版。（圖／資料照）
記者周康玉／台北報導
台積電（2330）今（7）日宣布，領先業界導入極紫外光（EUV）微影技術的7奈米強效版（N7+）製程已協助客戶產品大量進入市場。導入EUV微影技術的7奈米強效版奠基於7奈米（N7）製程上，為6奈米和更先進製程奠定良好基礎。
台積電表示，7奈米強效版的量產速度是史上量產速度最快的製程之一，已於第2季開始量產，在7奈米製程技術量產超過一年時間的情況下，7奈米強效版良率與7奈米已相當接近。
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7奈米強效版除了提供整體效能的提升，其邏輯密度比7奈米提高15%-20%，同時降低功耗，使其成為業界下一波產品中更受歡迎的製程選擇，台積電亦快速布建產能以滿足多個客戶對於7奈米強效版的需求。
台積電宣布，其EUV設備已達成熟生產的實力，EUV設備機台亦達大量生產的目標，在日常運作的輸出功率都大於250瓦。
台積電業務開發副總經理張曉強博士表示，AI和5G的應用為晶片設計開啟了更多的可能，台積電的客戶充滿創新及領先的設計理念，需要台積電的技術和製造能力使其實現。台積電在EUV微影技術上的成功，使公司不僅能夠具體落實客戶的領先設計，同時能使其大量生產。
7奈米強效版的成功經驗是未來先進製程技術的基石。台積電6奈米製程技術（N6）將於2020年第一季進入試產，並於明年底前進入量產。
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EUV微影技術能使晶片持續微縮，因 EUV的較短波長能夠更完美地解析先進製程的設計。
隨著EUV微影技術的進一步應用，6奈米的邏輯密度將比7奈米提高18%，而6奈米憑藉著與7奈米完全相容的設計法則，亦可大幅縮短客戶產品上
市的時間。