台積電打造「TSMC 3DFabric」平台 整合3DIC技術!也推低功耗、高效能N12e

▲台積電總裁魏哲家介紹「TSMC 3DFabric」。(圖/翻攝自台積電)

▲台積電總裁魏哲家。(圖/翻攝自台積電)

記者楊絡懸/台北報導

晶圓代工廠「台積電」(2330)25日舉行技術論壇,總裁魏哲家宣布,台積電已整合包括SoIC(系統整合晶片)、InFO(整合型扇出封裝技術)、CoWoS(基板上晶圓上晶片封裝)等3DIC技術平台,命名為「TSMC 3DFabric」,將提供業界最完整、且最多用途的解決方案,用於整合邏輯chiplet、高頻寬記憶體、特殊製程晶片,實現更多創新產品設計。

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「在半導體進步越來越快的時刻,創新比以往更為重要!」魏哲家表示,台積電一方面持續努力實現電晶體微縮,同時也發現2D微縮不足以支撐製程需求,在前瞻性投資與研發部門努力下,3DIC技術已是一條可行道路,可同時滿足系統效能、縮小面積及整合不同功能需求,擁有業界最先進的晶圓級3DIC技術,從晶圓堆疊到先進封裝一應俱全,協助更有效率系統整合。

在特殊製程技術方面,魏哲家指出,特殊製程於實現人機互動上,以及延伸人類感知與動作能力方面扮演重要角色,這些能力的拓展讓各種裝置對半導體的需求大增;現今隨身攜帶的邊緣裝置,除聯網外,必須有更多智慧能力處理大量數據,這些聯網邊緣裝置所用到的半導體技術,都要能符合低功耗需求。

針對此需求,魏哲家透露,台積電近期推出N12e技術,擁有更低功耗、保有高效能運算能力,在沒有犧牲速度與邏輯密度前提下,進一步提升電源效率,並支持超低漏電裝置,超低VDD設計、可低至0.4伏特以下,是業界重大突破,「有了N12e,我們能在智慧、物聯網、行動裝置、和其他產品應用方面,實現更多創新,為人類的生活帶來正面改變。」

▲魏哲家介紹「TSMC 3DFabric」。(圖/翻攝自台積電)

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