▲三星電子副董事長李在鎔拜訪ASML來確保EUV設備供應穩定。（示意圖／CFP）
記者高兆麟／綜合報導
根據韓媒報導，三星電子副董事長李在鎔，將從荷蘭半導體設備廠艾司摩爾 (ASML) 取得額外極紫外微影曝光設備 (EUV)，不過三星目前沒有透露EUV設備的細節。
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三星表示，李在鎔於 6 月 14 日在荷蘭 Veldhoven 的 ASML 總部與 ASML 的高級主管會面，包括執行長 Peter Wennink 和技術長 Martin van den Brink，雙方就未來半導體技術、半導體市場前景、EUV光刻設備供應、中長期業務方向等進行了討論。
韓媒指出，三星需要確保EUV設備供應穩定才能超越台積電，取得龍頭地位，然而EUV設備被ASML壟斷，因此想要取得比ASML最大客戶台積電更多的設備並不容易。
自 2000 年以來，三星電子一直與 ASML 在半導體製造工藝和設備開發方面進行合作。2012 年，這家晶片製造商通過對其進行投資，加強了與 ASML 的合作夥伴關係。2016 年 11 月，包括 CEO Wennink 在內的 ASML 高級主管訪問三星電子，就下一代 EUV 技術發展現狀進行了說明，並就中長期投資計劃發表了意見。
李在鎔這次出訪荷蘭，也會見荷蘭首相。三星表示，雙方討論加強半導體代工能力和解決全球半導體供應鏈合作。三星強調，李在鎔請求荷蘭首相支援，以確保 ASML 的 EUV 微影曝光設備穩定供應。
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