
▲台積電。(圖/記者高兆麟攝)
記者高兆麟/台北報導
晶圓代工龍頭台積電(2330)北美技術論壇最新揭示次世代製程藍圖,強調在不仰賴新一代高成本設備的情況下,持續推進晶片微縮與效能提升。消息公布後,台積電ADR及今日台股應聲大漲,ADR大漲 5.26% 至每股 387.44 美元,不過ASML則下跌1.09%,每股報1443.14美元。
綜合外媒報導,公司指出,將透過優化既有極紫外光(EUV)技術,延伸技術節點發展路徑,降低資本支出壓力,同時維持競爭優勢。
此次公布的重點技術包括預計於2029年量產的A13製程,以及主打成本效益的N2U製程。台積電表示,A13將鎖定人工智慧(AI)應用,而N2U則兼顧手機、筆電與AI晶片需求,提供更具價格競爭力的解決方案。
在設備策略上,台積電並未選擇全面導入由艾司摩爾提供、單價高達約4億美元的新一代高數值孔徑(High-NA)EUV設備,而是持續深化既有EUV機台效能。台積電營運高層指出,透過研發優化現有設備,仍可達到技術推進目標,這也是公司的一大優勢。
不過,單純製程微縮帶來的效能提升已趨有限,台積電同時強化先進封裝布局,著重多晶片整合技術。公司預期,到2028年可實現將10顆大型運算晶片與20組高頻寬記憶體整合封裝,相較現行設計大幅提升運算能力。
業界認為,此舉等同以封裝技術延續摩爾定律的精神。分析機構指出,半導體發展已由單一晶片進化為多晶片整合架構,透過系統級封裝提升整體效能,成為未來主流方向。
然而,多晶片堆疊亦帶來新挑戰,包括散熱、材料熱膨脹差異,以及大型封裝可能出現變形或裂損等問題。分析師指出,這些技術瓶頸仍待克服,將是未來先進封裝發展的關鍵觀察指標。
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