
▲台積電董事長魏哲家。(圖/記者高兆麟攝)
記者高兆麟/新竹報導
台積電(2330)今(4日)舉行股東會,董事長魏哲家回應股東提問時表示,「我們已採購高數值孔徑極紫外(High-NA EUV)光刻機用於研發,但因成本過高影響,當前量產階段暫不需要高數值孔徑極紫外設備。
有股東關切台積電是否因成本考量而不投入下一代High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光)微影設備,深怕影響未來先進製程競爭力。
魏哲家說,「我們有買High-NA EUV,而且正努力研發技術,但目前不需要拿來做生產,因為成本稍微有點高,會盡量降低成本,能發揮好處才會進入生產,我們都買了,但買幾架就不好意思講了。」
光刻機主要由艾司摩爾(ASML)生產銷售,此前台積電傳出購買成本太高不購買High-NA EUV,影響ASML 股價,惟目前ASML美股夜盤波動不大,小跌逾0.5%。
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