▲台積電7奈米2018年試產。(圖/資料照)
記者高振誠/台北報導
晶圓代工龍頭台積電(2330)全力衝刺先進製程,迎接源源不絕物聯網商機。根據台積電2014年報中指出,16奈米鰭式場效電晶體強效版(16FF+)製程技術,於去年第4季已完成所有可靠性驗證,今年7月可望進入量產階段,預期年底前將可完成近60件客戶產品設計定案,此外,10奈米製程也預計於明(2016)年開始量產,至於7奈米先進製程則將於2018年進行試產。
從製程進度來看,去年台積電主宰市場的28奈米製程技術,已有多項顯著進展,這些強化製程及多樣化延伸,協助台積電得以繼續保持全球市占領先地位,另外,為滿足客戶日益精進需求,針對超低功耗產品所新推出的28奈米超低耗電製程(28ULP),可近一步協助客戶擴展至物聯網及穿戴式裝置領域。
去年中旬台積電20奈米製程進入量產後,對第4季營收貢獻迅速攀升至21%,締造史上製程量產最快紀錄,藉由雙重曝光技術推出,20奈米系統單晶片製程(20SoC)提供更優異的晶片閘密度與功耗優勢,有效支援效能驅動的產品並協助行動運算應用的演進,至於16奈米鰭式場效電晶體強效版製程(16FF+)擁有完備設計生態環境,能夠支援多樣化的設計工具,以及超過100件通過矽晶驗證的矽智財,今年底前將可完成近60件客戶產品設計定案。
值得一題的是,台積電目前正加速10奈米技術設計生態環境佈建,不僅及早開始矽智財驗證程序,而且已完成超過35件設計工具驗證,至於7奈米先進製程技術,也已經進入進階開發階段,今年將著重電晶體結構選擇、電晶體與導線基本製程制定,以及初步可靠性評估,除了矽晶元件微縮,也正透過先進封裝技術進行系統微縮,增加系統傳輸頻寬、減少功耗以及縮小元件尺寸。
去年台積電引進第2台NXE3300極紫外光(EUV)曝光機,目前正與艾司摩爾(ASML)合作提升設備能力,以期達到對7奈米先進製程技術要求,同時也針對7奈米以下製程,開始評估多重電子束直寫技術,加速新世代半導體先進製程相關研發,在半導體下一個大趨勢來臨時,扮演帶動產業向上提升不可或缺的重要推手。
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