英特格推10nm以下的製程清潔劑 半導體展亮相

▲Entegris於6日舉辦五十周年暨新品發表會。（圖／記者王雅賢攝）

記者王雅賢／台北報導

專以協助半導體製程相關問題的廠商英特格（Entegris）6日舉辦50周年記者會，並推出適用於半導體10nm製程以下的新型(post-CMP)清潔溶液。該產品也將於SEMICON Taiwan國際半導體展期間展出。

▲Entegris總裁兼執行長Bertrand Loy及英特格台灣區總經理謝俊安。（圖／記者王雅賢攝）

Entegris總裁兼執行長Bertrand Loy表示，「我們都知道，在半導體製程中需要極高清潔度，有細微奈米顆粒都不行，Entegris此次推出的新型(post-CMP)清潔溶液，PlanarClean AG系列產品是專為10nm以下的製程所設計。」

Entegris表示，Entegris的PlanarClean系列產品早已被世界各地的晶圓廠使用，而為了因應於材料不斷推陳出新 (如鈷和鎢)，先進節點的晶圓製造越來越複雜，我們重新調製 PlanarClean 溶液，提供優越清洗能力的同時，且不會損壞高階薄膜或新材料。

英特格台灣區總經理謝俊安表示，台灣目前佔公司業績約25％，預計未來佔比會持續升高，而預估業績能成長的原因有二，全球行銷副總楊文革表示，「半導體產業在台積電的帶動下不斷成長，從全球來看，投資半導體最遠、最投入、金額最高的是台積電，另一個是，台灣產業鏈中可以發現有許多廠商自製化學品投資也在增加，因此台灣未來半導體產業獲利增加是可預見的。」

另外，Entegris過去兩年的各系列產品也將於SEMICON Taiwan國際半導體展期間展出。