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英特格再提侵犯專利訴訟 家登：絕無侵害他人專利
英特格（Entegris, Inc.）、家登精密（3680）專利權訴訟未解，英特格今宣布指家登疑未經授權實施其中華民國發明第I606534號及I515159號專利權行為，向台灣智慧財產及商業法院提起專利侵權訴訟，對此，家登強調尚未收到起訴狀，無法具體表示意見，但堅信並無侵害他人專利之情事。
2023-09-01 15:54
家登控英特格侵權一審遭駁回 公司：將再上訴
家登（3680）日前對「美國安堤格里斯公司(Entegris.Inc.)」（英特格）等7人， 就侵害專利權請求損害賠償案件，經智慧財產及商業法院第一審判決駁回，家登表示將續行上訴以維護權益。
2023-06-11 09:27
英特格遭家登控侵權獲正面判決 公司：謝法院持平處理「堅信無侵權」
半導體光罩廠家登（3680）於2021年11月，聲稱英特格的FOUP及EUV產品侵犯其一項專利，並對其提出告訴；英特格今日對此表示，此訴訟結果已於今日出爐，英特格也獲得了正面判決，但在法院公布裁決細節前，英特格將不會針對此訴訟案做進一步的評論。
2023-06-09 18:13
英特格斥資140億投資高雄南科建新廠 將支持五奈米以下技術製程發展
全球先進材料及製程方案供應商英特格（Entegris），今日宣布擴大投資其在台灣設立的全新、具備最先進技術之廠區，未來三年，該投資將增至約 5 億美元（約140億台幣）。此擴大投資為英特格今年歡慶在台三十週年之後，再次展現其深耕台灣佈局之承諾的重要一環。該新廠區全面營運後，預計可創造年營收約 5 億美元（約140億台幣）。
2021-12-08 10:50
與家登十年專利訴訟達成和解 英特格：有助客戶發展
半導體材料廠英特格（Entegris）今（21）日針對與EUV光罩廠家登（3680）纏訟多年後達成和解一案，首度表示看法。英特格總裁暨執行長Bertrand Loy表示，和解是雙方最好的結果，此結果將有助客戶發展。
2020-12-21 13:37
英特格在台大擴產！高雄廠明年投產 徵200名專才
半導體材料廠英特格（Entegris）今（21）日宣布將在未來3-5年內在台投資約兩億美元（約新台幣56.8億元），於明（2021）年初起興建新廠、同年底完工投產，並增聘200名化工專長及製造經驗人才，擴大在台布局。
2020-12-21 10:46
纏訟五年終落幕！家登與英特格和解 取回9.7億元擔保金
以EUV光罩盒打入台積電供應鏈而聞名的家登（3680）與美商英特格（ENTEGRIS）因RSP光罩傳送盒及EUV POD等產品纏訟多時，家登宣布，雙方已於18日簽保密之授權協議書，達成和解授權。
2020-11-19 00:29
半導體化學廠英特格砸6.18億元韓國擴廠 2020年投產
半導體特用化學原料廠英特格宣布正式在韓國長安區舉行隸屬先進材料處理部門中最新科技高潔淨化學桶（DRUM）製造廠房的破土典禮，英特格投入約2000萬美元（約新台幣6.18億元）打造該廠房，預計2020年下半年度投產。
2019-05-09 13:47
英特格去年營收16億美元 年成長15%
半導體特用化學材料供應商英特格近期公布財報，去（2018）年12月31日的年度財務報告。2018年度銷售額為15.5億美元，比起2017年同期成長15%。
2019-02-19 17:14
英特格連3年獲全國團結圈活動獎 助台半導體廠升級
半導體特用化學材料供應商英特格（Entegris）今（30）日宣布連三年獲得全國團結圈活動「區會長獎」，期望透過此獎推升台灣半導體產業能量。
2018-11-30 19:07
就是愛歹丸！繼1,8億投資後 美商英特格與經部簽意向書
半導體材料商英特格（Entegris）今（8）日與經濟部簽屬投資意向書，著重於研發創新，並結合現階段重大產業政策，以厚植台灣半導體產業實力，期盼共同推動台灣半導體產業的升級與成長。
2018-10-08 16:02
跟著台積電腳步...英特格砸1.8億投資台灣
半導體材料商英特格今（31）日宣布將砸1.8億元（約為600萬美元），擴大台灣技術研發中心，以因應先進製程在量產、性能等需求，台灣區總經理謝俊安表示，英特格每年都會有9%的研發支出，客戶在哪，英特格就在哪設據點，因為R&D速度都很快，只有更靠近客戶才能快速跟著客戶成長。
2018-08-31 14:04
台積電三星EUV大戰開打 供應鏈積極布局認證
隨著半導體產業開始大量使用EUV微影技術，供應鏈也動起來。先進半導體污染控制設備商英特格（Entegris）下一代EUV 1010光罩盒，率先成為全世界第一個獲得ASML認證。
2018-08-22 15:47
英特格推10nm以下的製程清潔劑 半導體展亮相
專以協助半導體製程相關問題的廠商英特格（Entegris）6日舉辦50周年記者會，並推出適用於半導體10nm製程以下的新型(post-CMP)清潔溶液。該產品也將於SEMICON Taiwan國際半導體展期間展出。
2016-09-07 00:50
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