▲台積電。(圖/路透)
記者廖婕妤/台北報導
輝達日前宣布與台積電(2330)、艾斯摩爾(ASML)及新思科技(Synopsys)合作開發2奈米技術的消息,將推出名為「cuLitho」的軟體庫技術,實現相關工作,性能比傳統EUV技術高出40倍,並決定加強在EUV設備上的合作。
新思科技是一家電子設計自動化(EDA)公司,將提供軟體程式;ASML將負責製造和供應EUV設備,價格約落在230至3.85億美元之間;負責GPU晶片設計的輝達將提供的技術備受關注。據評估,輝達的加速運算技術對台積電2奈米製程發展非常重要。
輝達CEO黃仁勳表示,晶片業是世界上幾乎所有其他產業的基礎。在微影技術現已達到物理學極限的情況下,輝達推出的cuLitho,並且與合作夥伴台積電、ASML 及 Synopsys合作,將協助晶圓廠提高產量、減少碳足跡,且為2奈米及更先進的製程發展奠定基礎。
這些半導體業龍頭的合作,將有助於台積電2奈米或更小製程的發展。台積電總裁魏哲嘉表示,cuLitho 團隊將曠日費時的作業交給 GPU 來執行,在加快運算式微影技術方面取得了重大進展。這項發展為台積電在晶片製造中更大範圍地部署反向微影技術和深度學習等微影技術解決方案,開創了新的可能性,為半導體微縮的持續提供重要貢獻 。
不過,這樣的聯盟威力強大,韓媒引述專家的說法指出,在這一發展過程中,三星電子也需要建立合作夥伴關係,並獲得支持,使三星電子能夠保持其在開發先進晶片技術方面的優勢。
事實上,去年6月,三星就成功量產採用基於下一代晶體管結構的全環柵(GAA)製程的3奈米晶片;台積電在去年12月才開始量產。
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