替代ASML強化自主性 中國半導體設備新廠展示28奈米晶圓光刻技術

▲晶圓。（圖／CFP）

記者高兆麟／綜合報導

根據外媒報導，深圳新凱來公司近日在上海SEMICON China 2025展會上，首次公開展示其28奈米級晶圓光刻技術，吸引了全球半導體產業的高度關注。此次展示的設備涵蓋原子層沉積、化學氣相沉積、物理氣相沉積、蝕刻和退火等關鍵製程，雖未展示光刻設備，但已證實其28奈米浸潤式光刻系統技術達到國際主流水準。

新凱來與華為合作開發的28奈米光刻機旨在取代包括ASML在內的國際大廠，提升中國半導體自主性，並突破美國對先進晶片設備的出口管制。半導體產業分析師王磊指出，28奈米是成熟與先進製程的分水嶺，新凱來的突破代表中國國產設備在關鍵製程領域取得重大進展。

成立於2021年的新凱來，由深圳市政府資助，專注於開發半導體製造設備。公司在北京、上海、西安等地設有研發中心，並從國際大廠挖角頂尖技術人才，包括曾任職於ASML、應用材料、科林研發和東京威力科創的工程師。

儘管成立僅4年，新凱來已展現出強烈的市場企圖心，客戶包括中芯國際和華虹集團等中國半導體龍頭。部分蝕刻設備已在功率半導體產線實現批量應用。展望未來，新凱來計畫在未來3年內將研發中心拓展至超過10個城市，並在歐洲和東南亞設立技術服務中心，擴大其全球影響力。