▲台積電7奈米強效版。(圖/資料照)
記者周康玉/台北報導
台積電(2330)今(7)日宣布,領先業界導入極紫外光(EUV)微影技術的7奈米強效版(N7+)製程已協助客戶產品大量進入市場。導入EUV微影技術的7奈米強效版奠基於7奈米(N7)製程上,為6奈米和更先進製程奠定良好基礎。
台積電表示,7奈米強效版的量產速度是史上量產速度最快的製程之一,已於第2季開始量產,在7奈米製程技術量產超過一年時間的情況下,7奈米強效版良率與7奈米已相當接近。
7奈米強效版除了提供整體效能的提升,其邏輯密度比7奈米提高15%-20%,同時降低功耗,使其成為業界下一波產品中更受歡迎的製程選擇,台積電亦快速布建產能以滿足多個客戶對於7奈米強效版的需求。
台積電宣布,其EUV設備已達成熟生產的實力,EUV設備機台亦達大量生產的目標,在日常運作的輸出功率都大於250瓦。
台積電業務開發副總經理張曉強博士表示,AI和5G的應用為晶片設計開啟了更多的可能,台積電的客戶充滿創新及領先的設計理念,需要台積電的技術和製造能力使其實現。台積電在EUV微影技術上的成功,使公司不僅能夠具體落實客戶的領先設計,同時能使其大量生產。
7奈米強效版的成功經驗是未來先進製程技術的基石。台積電6奈米製程技術(N6)將於2020年第一季進入試產,並於明年底前進入量產。
EUV微影技術能使晶片持續微縮,因 EUV的較短波長能夠更完美地解析先進製程的設計。
隨著EUV微影技術的進一步應用,6奈米的邏輯密度將比7奈米提高18%,而6奈米憑藉著與7奈米完全相容的設計法則,亦可大幅縮短客戶產品上
市的時間。
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