2奈米之爭白熱化! 外媒:三星、英特爾專注追趕台積電

▲台積電。(圖/記者高兆麟攝)

▲台積電。(圖/記者高兆麟攝)

記者高兆麟/綜合報導

根據韓媒BusinessKorea報導,來自韓國、台灣和美國的領先晶片製造商在先進2奈米 半導體製程方面的競爭預計明年將加劇,三星和英特爾都專注於超越台積電製程,而非擴大訂單,想先搶占下一個市場,而非和產業龍頭價格競爭。

目前,最先進的量產技術是3奈米製程,由三星電子和台積電製造。三星於去年6月開始量產3奈米製程,而台積電則於今年初開始量產。然而,由於對初始良率的擔憂以及半導體市場的低迷,3奈米製程的市場需求並未達到預期,導致客戶對這些高成本、先進製程的需求減少。

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除了台積電獨家生產蘋果M3晶片和行動應用處理器 A17 之外,全球主要無晶圓廠公司仍主要使用4奈米製程,而非3奈米製程。

同時,台積電的主導地位只增不減。根據市場研究公司TrendForce的數據,台積電在全球晶圓代工市場的佔有率從2021年第三季的53.1%成長到2023年同期的57.9%。相較之下,三星代工的市佔率從2021年第三季的17.1%下降到2023年同期的12.4%。

儘管如此,英特爾和三星都更專注於先於台積電開發先進製程,而不是立即擴大訂單。他們的策略是搶佔下一個市場,而不是與產業領導者進行價格競爭。

尤其是英特爾正在採取積極措施重新進入代工業務。計劃明年上半年量產2奈米級產品,下半年開發1.8奈米產品18A。

與此相關的是,荷蘭半導體設備公司ASML近日在其官方社群媒體上宣布,將向英特爾交付全球首款高NA極紫外線(EUV)設備。該設備由 ASML 獨家生產,對於實現7奈米以上的精細電路至關重要。High-NA EUV預計將成為2奈米以下製程的關鍵工具,實現比現有 EUV 設備更精細的製程。去年年初,英特爾率先與 ASML 簽署了該設備的合同,領先三星電子和台積電。

三星代工廠去年開始量產3奈米製程,目標是明年開始量產改進的第二代3奈米製程,並計劃在 2025 年上半年量產2奈米製程。台積電已將2奈米製程量產時間表定於2025 年下半年。

關鍵字: 三星英特爾台積電

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